2018功率器件研讨会

  • 时间:2018年月16日下午
  • 地点:浦东嘉里大酒店三层,办公楼多功能厅1号
  • 主持人: 方子文 博士,市场与工艺支持,爱思强
  • 主办单位:德国爱思强股份有限公司、上海微技术工业研究院
题目 演说者 时长
13:30 开幕致辞 Frank Wischmeyer  (VP AIXTRON)
丁辉文 (VP SITRI)
10 分钟
13:40 碳化硅单晶衬底产业化 彭同华 博士
副总经理
北京天科合达半导体
20 分钟
14:00 大尺寸碳化硅外延生长技术进展 冯淦 博士
总经理
瀚天天成电子科技
20 分钟
14:20 第三代半导体碳化硅器件研究与发展概况 张峰 博士
研究员
中科院半导体所
20 分钟
14:40 功率半导体器件在新能源汽车中的应用 朱明磊 博士
工程师
上汽大众汽车有限公司
20 分钟
15:00 茶歇 30 分钟
15:30 功率器件-驱动未来 Frank Wischmeyer 博士
副总裁
德国爱思强股份有限公司
20 分钟
15:50 面向产业化应用的大尺寸硅基GaN外延生长技术 袁理 博士
功率器件部总监
上海微技术工业研究院
20 分钟
16:10 功率器件外延及衬底缺陷检测方案 Thomas Pierson
市场/应用总监
KLA-Tencor
20 分钟
16:30 应用于功率半导体的先进刻蚀和ALD沉积技术 Ian Wright
副总裁 亚洲区总经理
牛津仪器等离子
20 分钟

本次研讨会免费参加

联络人:陆女士,13585730687,ch.lu@aixtron.com